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案例二-事業(晶圓製造及半導體製造業)
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一、改善措施
- 增設第三套廢水(C-line)處理設備，以增加處理設備承載量。
- 修復處理設備中(A-line)控電盤，使廢水系統(A-line)可以完全控制及預警並增設電盤監視，重複確認水質是否異常。
- 重點處理流程設定監控儀器，超過設定值則回流廢水杜絕超標。
- 增設再監視盤，重覆確認水質是否異常。
- 警衛室與產線端增設廢水處理系統異常警報，增加人員協助確認機制。
- 強化高濃度製程廢液分流，降低廢水處理設備負荷。
二、改善成果
排放水質有減低趨勢，其中以COD及鎳最為明顯。
| 年度 | 105年度 | 106年度 | 107年度 | 108年度 |
|---|---|---|---|---|
| COD排放量(公斤) | 22,430.1 | 21,125.6 | 9,725.7 | 11,274.5 |
| 鎳排放量(公斤) | 143.1 | 9.6 | 15.2 | 12.3 |
